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鍍膜玻璃蒸鍍法的方法

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  為了使蒸發(fā)材料氣化,在真空蒸發(fā)過程中,大多數(shù)據(jù)發(fā)材料都必須在10001750C溫度下進(jìn)行蒸發(fā),因此,必須采用各種加熱方法將蒸發(fā)材料加熱,通常把真空設(shè)備中對(duì)蒸發(fā)材料進(jìn)行加熱的零件稱為蒸發(fā)源。蒸發(fā)鍍膜的蒸發(fā)源有多種形式,如電阻加熱源、電子束加熱源、高頻感應(yīng)加熱源等,大面積玻璃基片蒸發(fā)鍍膜常用電阻加熱源。

  1電阻蒸發(fā)源蒸鍍法

  采用租、鉬、鎢等高熔點(diǎn)金屬,做成適當(dāng)形狀的蒸發(fā)源,其上裝入待蒸發(fā)材料,讓氣流通過,對(duì)蒸發(fā)材料進(jìn)行直接加熱蒸發(fā),或者把待蒸發(fā)材料放人氧化鋁,氧化鈹?shù)熔釄逯羞M(jìn)行間接加熱蒸發(fā),這就是電阻加熱蒸發(fā)法。

  (1)電阻加熱源

  電阻加熱源是用高阻抗材料構(gòu)成,當(dāng)電流通過加熱源時(shí)產(chǎn)生大量的熱能,用此熱量來(lái)加熱蒸發(fā)材料。加熱源是加熱體和支撐蒸發(fā)材料的支承物,形狀有單股絲狀螺旋形、多股絲狀螺旋形、“凹"形舟、方形舟、圓錐形單股絲等,它們是直接加熱蒸發(fā)源。間接加熱蒸發(fā)源由坩堝和加熱體組成,將粉狀蒸發(fā)材料放人坩堝中,加熱體裝在坩堝外面,用加熱體加熱坩堝而間接加熱粉狀蒸發(fā)材料。為了加速加熱粉狀蒸發(fā)材料及提高加熱效率,將加熱體分成兩部分,一部分裝在坩堝外面,另一部分插人粉狀蒸發(fā)材料中,共同加熱粉狀蒸發(fā)材料,此種類型則是綜合型加熱蒸發(fā)源。電阻蒸發(fā)源形狀示意圖如圖4-10所示。


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